关于公开征求《仿制口服片剂功能性刻痕设计和研究的一般要求》意见的通知

       为了完善仿制药注册申请的技术标准，我中心参考各国监管机构相关的技术要求并结合中国药典及国内仿制药研发与生产现状，组织起草了《仿制口服片剂功能性刻痕设计和研究的一般要求》，拟为带有功能性刻痕的仿制口服片剂的研发、申报和上市后变更提供技术参考，现向社会各界公开征求意见。       社会各界如有意见，请于2019年8月2日前通过电子邮箱反馈。      

联系人：陈思 石靖        邮箱： chens@cde.org.cn；shij@cde.org.cn